极紫外光刻机（EUV）

使用波长13.5纳米极紫外光的光刻设备，是生产7nm及以下先进制程芯片的核心工具。需在真空环境中通过锡等离子体产生光源，以多层布拉格反射镜聚焦。单台设备包含逾十万个精密零件，全球仅ASML量产。