待验证50% 置信事实精确时间

EUV光刻机整个光路必须在真空中工作，光源依赖高功率激光轰击锡液滴产生等离子体。

1

来源数

50%

置信度

长期有效

时效性

2026/10/19

首次发现

来源

马斯克Terafab芯片计划：押注ASML光刻技术

rss2026/10/19

涉及实体

EUV光刻concept

相关事实

已验证EUV使用波长13.5nm的极紫外光作为曝光光源，是量产7nm以下制程的必要手段69% 相似待验证切伦科夫辐射发生的条件是带电粒子在介质中运动速度超过光在该介质中的传播速度（但仍低于真空光速）61% 相似待验证在中性原子量子计算中，光镊激光通常需要与冷却激光、里德堡激发激光等多套光路协同工作，任何一路漂移都可能导致原子丢失或量子门操作失败。58% 相似

引用此条事实

Stable URI

https://kongchang.com/claim/1068137

API

curl https://kongchang.com/api/v1/knowledge/claims/1068137

MCP

get_claim(id=1068137)