待验证50% 置信事实精确时间

EUV技术使用13.5纳米波长光源，相较传统DUV(193纳米)可在单次曝光实现更精细图案转移，是7nm以下先进制程量产的关键技术

1

来源数

50%

置信度

长期有效

时效性

2026/7/24

首次发现

来源

DeepSeek自研AI芯片：中国AI摆脱英伟达依赖的关键一步

redditr/LocalLLaMA2026/7/12

相关事实

待验证中芯国际主要依靠深紫外光刻（DUV）多重曝光技术实现部分7nm制程产品的小批量生产，但良率与产能与台积电存在显著差距71% 相似待验证先进制程芯片制造高度依赖荷兰ASML生产的极紫外光刻机（EUV）68% 相似

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